В России при поддержке НТИ создан проект многолучевого электронного литографа. Новая установка способна экспонировать кремниевую пластину за 5–7 минут — в три тысячи раз быстрее традиционных аналогов. Об этом сообщает ProGorodNSK.ru. Об этом пишет сайт Самара онлайн 24.
Мультикатод, ключевой узел системы, уже прошёл испытания. Он генерирует множество пучков электронов одновременно, тогда как классические литографы обходятся одним лучом. Главный разработчик Евгений Гиваргизов рассказал о массивах источников с вершиной радиусом всего 1,5–2 нанометра — это один из лучших показателей в мире. Новая технология не требует сложных схем расщепления лучей, как зарубежные аналоги, что удешевляет оборудование и упрощает его инфраструктуру.
Первый опытный образец может появиться через три года. Установка рассчитана на выпуск чипов от традиционных 350 нм до перспективных процессов с топологией в несколько нанометров. Предельное разрешение, по словам разработчиков, будет зависеть от характеристик фоторезистов.
Мнения экспертов разошлись. Сергей Сазонов, специалист НТИ по микроэлектронике, считает концепцию многообещающей, но отмечает необходимость надёжного управления большим количеством лучей. Сергей Варнавский указывает, что проект находится на ранней стадии, и к моменту готовности установка может устареть. Впрочем, на российском рынке с низкой конкуренцией разработка может оказаться востребованной. Успех поможет снизить зависимость отечественной микроэлектроники от импортного литографического оборудования.